RESEARCH RESULTS

주요연구성과

주요업무

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각종 표면처리 Process 개발
최고 공정의 Process 개발

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약품 분석
물성 분석

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친환경적 개발
신사업 연구

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수입 검사
출하 검사

NR G&C 연구실적

2030 - 2021

2030

2021

  • 2026

    Non-E/T type 마스킹전용 박리액 개발

    용인중앙연구소 신사옥 이전

  • 2025

    Non-E/T type chemical bonding 개발

    PR 세정제 개발

  • 2024

    염소산type 에칭첨가제 NEA-01 개발

    박테리아 세정제 개발

    CZ 전처리 탈지 개발

  • 2023

    De0flux 세정제 개발

    TGV Ti/Cu Ethacnt 개발

    PR 박리액 개발

  • 2022

    에칭첨가제(NIE-30) 개발

    유기막코팅 chemboding 개발

  • 2021

    에칭첨가제(NIE-20) 개발

    Invar Mask Etchnat 개발

2020 - 2011

2020

2011

  • 2020

    ECRC우수연구소 지정

    Fine pattern SAP Etchant EFP-5 개발

    DMC 대체 산업용 세정제 개발

     

  • 2019

    첨가제 Type 현상단 세정제 개발
    디스미어 전용 약품 개발

  • 2018

    Deflux 세정제 개발
    사형 이형제 개발
    금속 세정제 및 금속의 세정방법 특허출원

  • 2017

    친환경 metal 세정제 개발

  • 2016

    PSR 전처리 유기산 에칭액 개발
    Metal cleaner 개발

  • 2015

    Heavy resist 박리/현상액 개발
    0.3㎛ 이하 low 에칭액 개발

  • 2014

    Non-etching Type 박리액 개발

  • 2013

    OCA/OCR Resin Remover RV Series 개발
    고성능 탈지 용액 개발

  • 2012

    장비 클리너 개발
    MSAP FE Series 개발

  • 2011

    제2기술연구소 증축
    에칭액, 박리액 특허출원

    2011연혁 이미지

2010 - 1998

2010

1998

  • 2010

    NR G&C 2공장 및 기술연구소 증축
    Amine계 박리액, NRS Series 개발

  • 2008

    기술연구소 설립

  • 2007

    Ni, Sn, Ai 에칭액 개발
    고밀도 배선용 Etchant additive 개발
    ISO 14001 획득

  • 2006

    Semi Additive Process 에칭액 개발
    ISO 9001 획득

  • 2004

    Half Etching Solution 개발

  • 2003

    Fine pattern용 박리액 개발

  • 2002

    고성능 장비 세정제 개발

  • 2000

    인쇄회로 기판 전용 표면 소포제 개발

  • 1998

    인쇄회로 기판 표면 전처리제 국산화