企业简介
CEO 致辞
企业简介
经营理念
发展历程
位置指南
产品介绍
研究所介绍
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研究所组织
主要研究成果
器材储备现状
宣传中心
创新活动
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福利
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产品介绍
介绍NR G&C产品
PRODUCT
产品介绍
Chamber Cleaner-2
▼
Stripping Solution
Flash Etching Solution
Plating Solution
Soft Etching Solution
Half Etching Solution
Degreasing Agent
Antifoaming Agent
Developing Solution
Chamber Cleaner-1
Chamber Cleaner-2
Green Chem Leader of Naret
自主研发以及构建生产系统
Mr.
APPLICATION
Dry Film, Resist的显影Chamber清洗剂
Sludge不融化,分解排出
FEATURES
添加到显影液中,使用后可立即废除
添加剂方式可缩短清洁时间,使用便利性高
IMAGES OF CLEANSED EQUIPMENT