企业简介
CEO 致辞
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经营理念
发展历程
位置指南
产品介绍
研究所介绍
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研究所组织
主要研究成果
器材储备现状
宣传中心
创新活动
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产品介绍
介绍NR G&C产品
PRODUCT
产品介绍
Chamber Cleaner-1
▼
Stripping Solution
Flash Etching Solution
Plating Solution
Soft Etching Solution
Half Etching Solution
Degreasing Agent
Antifoaming Agent
Developing Solution
Chamber Cleaner-1
Chamber Cleaner-2
Green Chem Leader of Naret
自主研发以及构建生产系统
设备清洁剂(CL-series)
APPLICATION
Dry Film,Resist的显影&去膜Chamber简易清洁剂[CL-210]
Solder resist(PSR)的显影&去膜Chamber简易清洁剂[CL-300]
FEATURES
可以在循环使用五次
工艺上的应用简单方便
IMAGES OF CLEANSED EQUIPMENT